低碳钢电化学抛光表面形貌的统计学特性

• 作者: 朱金华 王保成
• 来源期刊: 西安交通大学学报
• 关键词: 低碳钢 电化学抛光 概率密度函数 自相关函数 统计学特性
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 专题研究
• 页码范围: 596-600
• 页数: 5页
• 分类号: TG662
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-987X.2006.05.023

摘要

采用试验和统计学方法研究了低碳钢在电化学抛光过程中,表面轮廓高度分布的概率密度函数和轮廓的自相关函数的变化.结果表明:随着电化学抛光的进行,概率密度函数分布呈现出平坦→陡峭→平坦的变化趋势,自相关函数呈现出随机→规律→随机的变化趋势;在特定的抛光阶段,概率密度函数分布变窄,自相关函数变化有明显的周期性;原始表面和完全电抛光表面呈现较强的随机性特征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱金华	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	79	817	15.0	24.0
2	王保成	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	31	202	10.0	13.0