5009激光图形发生器曝光实验

• 作者: 蒋玉贺
• 来源期刊: 微处理机
• 学科: 工学
• 关键词: 激光图形发生器 掩膜版 曝光
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 大规模集成电路设计、制造与应用
• 页码范围: 12-13
• 页数: 2页
• 分类号: TN305.6
• 字数: 1536字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-2279.2014.06.004

摘要

激光图形发生器是一种用于图形转化的硬件接口设备，直接影响着掩膜版的加工质量。激光图形发生器曝光过程中出现的曝光偏移、曝光遗漏问题，严重影响了掩膜版加工的质量和成品率。通过实验和分析，总结了产生曝光偏移、曝光遗漏的一些原因。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋玉贺	中国电子科技集团公司第四十七研究所	4	15	2.0	3.0