偏压对钛薄膜显微组织及力学性能的影响

• 作者: 刘芳 刘颍龙 吴倩 李翔 潘登 陈爱英
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 关键词: 钛薄膜 磁控溅射 偏压 纳米晶 Hall-Petch关系
• 年，卷（期）: 2014,（9）
• 所属期刊栏目: Functional Materials
• 页码范围: 2870-2876
• 页数: 7页
• 字数: 578字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(14)63420-8

摘要

为了研究纳米结构金属Ti的纳米力学性能，在偏压为0~140 V的范围内，采用磁控溅射方法制备纯钛薄膜。并采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)表征钛薄膜的显微组织。结果表明：钛薄膜呈现非晶与纳米晶的混合结构，且晶化程度随着偏压的升高而增大。纳米压痕测试结果表明：钛薄膜的硬度与晶粒尺寸在6~15 nm的范围内符合Hall-Petch关系。但其Hall-Petch关系的斜率与采用其他强烈塑性变形法制备的超细晶纯钛相比，明显偏小，且呈现软化趋势。此外，讨论偏压对钛薄膜生长取向的影响。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘芳	上海理工大学材料科学与工程学院	43	162	8.0	10.0
2	陈爱英	上海理工大学材料科学与工程学院	13	23	3.0	4.0
3	李翔	上海理工大学材料科学与工程学院	22	38	4.0	5.0
4	潘登	上海理工大学材料科学与工程学院	28	68	5.0	7.0
5	吴倩	上海理工大学材料科学与工程学院	3	20	2.0	3.0
6	刘颍龙	上海理工大学机械工程学院	2	12	2.0	2.0