相位控制残差对激光阵列合成的影响

• 作者: 张大勇 胡奇琪 骆永全 黄智蒙
• 来源期刊: 光电技术应用
• 学科: 工学
• 关键词: 激光阵列 相位残差 相干合成 数值模拟
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 激光技术
• 页码范围: 23-25
• 页数: 3页
• 分类号: TN249
• 字数: 1166字
• 语种: 中文

摘要

在激光阵列相干合成中,由于相位噪声的影响和相位控制系统带宽的限制,相位控制残差无法避免.文中从理论上推导了存在相位残差时激光阵列相干合成中远场光强分布,并结合光束传输因子BPF(beam propagation factor)作为合成效果的评价标准,分析了相位残差对相干合成的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张大勇	中国工程物理研究院流体物理研究所	62	225	7.0	12.0
2	骆永全	中国工程物理研究院流体物理研究所	42	119	6.0	8.0
3	黄智蒙	中国工程物理研究院流体物理研究所	5	5	2.0	2.0
4	胡奇琪	中国工程物理研究院流体物理研究所	5	3	1.0	1.0