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摘要:
在p型(100)单晶Si基衬底上,利用磁控溅射设备完成直流溅射Mo/Ti布拉格反射层和射频反应溅射AlN压电层,用光刻微加工工艺设计了不同谐振面积与电极图案的Ti/Au上电极,在优化工艺条件下制备了氮化铝基体声波质量传感器,比较分析了不同电极图案和谐振面积对传感器性能的影响.研究表明,电极图案相同时,谐振面积为10 000(100×100) μm2的器件电学性能最好,谐振面积相同时,电极图案为圆形的损耗最小;内角为直角的正方形损耗最大,内角为钝角的五边形损耗居中.
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文献信息
篇名 谐振面积与电极图案对质量传感器性能的影响
来源期刊 新技术新工艺 学科 工学
关键词 磁控溅射 质量传感器 谐振面积 电极图案
年,卷(期) 2014,(2) 所属期刊栏目 试验与研究
研究方向 页码范围 83-85
页数 3页 分类号 TN405
字数 1748字 语种 中文
DOI
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郑丹 武汉软件工程职业学院光电系 26 32 3.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
磁控溅射
质量传感器
谐振面积
电极图案
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
新技术新工艺
月刊
1003-5311
11-1765/T
大16开
北京车海淀区车道沟10号院科技1号楼804室
2-396
1979
chi
出版文献量(篇)
8183
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16
总被引数(次)
30326
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