铜镍合金催化制备大面积均匀的少层石墨烯

• 作者: 刘平 李铭 龙明生
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 化学
• 关键词: 石墨烯 化学气相沉积 铜镍合金 层数可控
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 629-633,664
• 分类号: O643.3|TB383|TQ426.8
• 语种: 中文

摘要

少层(1～5层)大面积均匀石墨烯的可控制备,是实现石墨烯在逻辑器件和透明导电电极中使用的关键.本工作使用常压化学气相沉积(CVD)方法,在铜镍合金基底上生长出少数层大面积均匀石墨烯.通过调节铜镍合金的厚度以及控制生长过程中的温度、时间、碳源浓度,本工作实现了层数可控石墨烯的制备.光学显微术、拉曼光谱、紫外可见吸收光谱、高分辨率透射电镜表征结果表明:制备出的石墨烯是大面积均匀的高质量少层石墨烯.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龙明生	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所	1	4	1.0	1.0