光束相干合成中填充因子对远场光强分布的影响

• 作者: 李新阳 谭毅
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 相干合成 填充因子 远场光强分布 评价参数
• 年，卷（期）: 2014,（9）
• 所属期刊栏目: 电磁学、光学、声学、传热学、经典力学和流体动力学
• 页码范围: 094202-1-094202-11
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.63.094202

摘要

理论推导了相干光束阵列远场光强分布的解析表达式.介绍了填充因子及五种相干合成效果评价参数的定义.分析了填充因子对远场光强分布的影响，发现填充因子通过影响空间调制因子来改变远场光强分布.求得了相干合成效果评价参数与填充因子的关系式，并绘制了关系曲线.计算结果表明，斯特列尔比与填充因子无关，恒为1；中央主瓣半径与填充因子成正比关系；中央主瓣能量密度受填充因子的影响较小；中央主瓣能量比与填充因子的平方成近似正比关系；桶中功率与填充因子的关系很复杂，但总体上随着填充因子的减小而减小.分析显示，若要保证中央主瓣能量比和PIB值均大于最佳值的一半，则填充因子应大于√2/2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李新阳	中国科学院自适应光学重点实验室	84	1029	16.0	30.0
5	谭毅	中国科学院自适应光学重点实验室	14	23	4.0	4.0