一种新型高比电容多孔氧化镍纳米片的制备

• 作者: 李涛 王文建
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: 多孔 氧化镍 纳米片 比电容
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 新材料与新技术
• 页码范围: 55-57
• 页数: 3页
• 语种: 中文

摘要

通过简单的两步方法合成了一种新型结构的多孔氧化镍(NiO)纳米片,分别利用X-射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨/投射电子显微镜(HR/TEM)对其晶体结构、形貌进行了表征,结果发现制备的NiO纳米片尺寸大约500nm,孔径大约30nm.此外,还对多孔NiO纳米片进行了电容性能测试,结果显示其比电容达到了326 F/g,表明该多孔NiO纳米片具有较高的电容性能和潜在的应用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王文建		3	0	0.0	0.0
2	李涛		2	0	0.0	0.0