阵列碳纳米管的石墨化程度

• 作者: 付志兵 唐永建 易勇 王朝阳 程艳奎 马康夫
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 阵列碳纳米管 石墨化程度 化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 87-92
• 页数: 6页
• 分类号: TQ177
• 字数: 4023字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB201426.022005

摘要

采用化学气相沉积法制备了阵列碳纳米管薄膜,对阵列碳纳米管的石墨化程度进行了系统研究.利用扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱(Raman)对样品形貌以及结构进行了表征.探讨了不同实验参数对阵列碳纳米管石墨化程度影响的机理.结果发现,在一定催化剂浓度范围内,催化剂浓度过低时,阵列碳纳米管的石墨化程度较差,而随着催化剂浓度的增加,阵列碳纳米管的石墨化程度逐渐变好;生长石墨化程度较好的阵列碳纳米管需要合适的进液速度,进液速度过低或过高都会使得碳纳米管的石墨化程度变差;此外,生长石墨化程度较好的阵列碳纳米管也需要合适的生长温度,生长温度过低或过高都会使得碳纳米管的石墨化程度变差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	281	2334	24.0	31.0
2	王朝阳	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	96	655	14.0	19.0
3	付志兵	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	53	352	10.0	15.0
4	易勇	西南科技大学材料科学与工程学院	53	162	6.0	9.0
5	马康夫	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	4	9	2.0	3.0
9	程艳奎	西南科技大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0