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摘要:
采用选择氧化法首次制备具有核壳结构的NiSi/SiO2纳米颗粒.通过SEM,TEM,EDX,XRD和VSM等测试手段对材料进行表征.结果表明,用上述方法制备得到的NiSi/SiO2纳米颗粒直径在40~200 nm之间,SiO2壳层厚度约为20 nm.基于选择氧化、结晶和热力学理论对SiO2壳层结构的形成机理进行了阐释.制备得到的NiSi/SiO2纳米颗粒在室温下显示出超顺磁性.
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文献信息
篇名 选择氧化法制备核壳NiSi/SiO2纳米颗粒及磁学性能研究
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 选择氧化 核壳结构 NiSi/SiO2纳米颗粒 磁学性能
年,卷(期) 2014,(9) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 2366-2371
页数 6页 分类号 O469
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘艳花 兰州交通大学机电工程学院 14 76 6.0 8.0
2 严仁杰 兰州交通大学机电工程学院 3 6 1.0 2.0
3 王海新 兰州交通大学机电工程学院 9 17 2.0 3.0
4 耿中荣 兰州交通大学机电工程学院 10 24 3.0 4.0
5 李钰 兰州交通大学机电工程学院 2 1 1.0 1.0
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人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
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