硅烷偶联剂KH550对超细石英粉的改性

• 作者: 冯启明 王凡非 王维清 黄阳
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: KH550 表面羟基数 FTIR XPS 表面改性
• 年，卷（期）: 2014,（18）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 70-73,98
• 页数: 5页
• 分类号: TQ127.2
• 字数: 3859字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2014.18.018

摘要

采用γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH550)对超细石英粉进行表面改性.探索最佳的改性条件,并对改性后的超细石英粉进行傅里叶变换红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)和Zeta电位的表征,分析计算了改性前后超细石英的粒度分布和表面羟基数变化.结果表明,KH550添加量为1.6％、反应时间为8h、反应温度为120℃时,对超细石英粉改性效果最佳;超细石英粉在改性前后表面羟基数由原来的1.74个/nm2减少到0.42个/nm2,疏水性提高;改性后超细石英Zeta电位绝对值较改性前提高,通过粒度分析,改性后超细石英粉细粒级含量增多,颗粒分散性提高;FTIR和XPS表明KH550在超细石英粉表面附着良好,为化学吸附,改性效果明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯启明	西南科技大学环境与资源学院	95	719	13.0	21.0
2	王维清	西南科技大学环境与资源学院	81	545	12.0	18.0
3	黄阳	西南科技大学环境与资源学院	47	235	7.0	11.0
4	王凡非	西南科技大学环境与资源学院	12	68	5.0	7.0