化学镀钴合金薄膜表面吸附

• 作者: 麻林辉
• 来源期刊: 中外企业家
• 学科: 教育
• 关键词: 钴 钨 磷 硼 化学镀
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 【广角镜】Wide-angle Lens
• 页码范围: 256-256,258
• 页数: 2页
• 分类号: G633.8
• 字数: 1560字
• 语种: 中文

摘要

钴合金薄膜化学沉积液是采用两个还原剂的：二甲胺硼烷（DMAB）和次磷酸钠。这个系统是允许自发的和自我活化的阻挡层沉积在铜丝上，再通过接触超大规模集成电路（ULSI）互联应用。这项工作提出了溶液的组成对材料性能和膜组成的影响。首先，我们提出了沉积速率，电阻，和薄膜中的各种元素，以及薄膜的粗糙程度。接下来，讨论了膜的成分以及它对溶液中还原剂组成比例直间的关系。实验结果表明，该膜硼、磷组成是由还原剂的表面吸附性决定的。因此，提出了这两种还原剂表面Co吸附模型并制定分析，与实验结果对比。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	麻林辉	丽水学院理学院	1	0	0.0	0.0