电化学原子层沉积研究现状及沉积体系的构建

• 作者: Marie-Christine Record 卜智翔 孙力 张国庆 王立世
• 来源期刊: 云南师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 电化学原子层沉积 电化学原子层外延 功能薄膜 沉积系统
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学与材料科学
• 页码范围: 35-40
• 页数: 6页
• 分类号: TQ15
• 字数: 2777字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7699/j.ynnu.ns-2015-007

摘要

近年来,电化学原子层沉积(Electrochemical atomic layer deposition,E-ALD)技术在制备催化、光电及热电等功能薄膜的研究和应用方面取得了较大进展.概述了E-ALD的发展历史、沉积原理、研究及应用情况,介绍了课题组研发的E-ALD系统的构成和生长过程的控制机理.