光学超分辨成像精度破极限达4．1纳米

• 来源期刊: 光学精密机械
• 学科: 数学
• 关键词: 光学超分辨 纳米量级 成像精度 极限 重点实验室 分辨率测量 量子信息 中国科大
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 页码范围: 20-21
• 页数: 2页
• 分类号: O171

摘要

中国科大郭光灿院士领导的中科院量子信息重点实验室孙方稳研究组，利用光学超分辨成像技术实现了对单个自旋态的纳米量级空间分辨率测量和操控，其成像精度达到4．1纳米。研究成果发表在《自然》子刊《光：科学与应用》上。