I{2}和M{2}的有效刻画

• 作者: 征道生
• 来源期刊: 华东师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 数学
• 关键词: 广义逆矩阵类的有效刻画 两个集合的2-范等距同构 矩阵的满秩分解 矩阵方程的解
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 应用数学与基础数学
• 页码范围: 42-50,67
• 页数: 10页
• 分类号: O151.21|O177.7
• 字数: 5113字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5641.2015.01.005

摘要

Stewart给出了一个矩阵2-逆集合M{2}的刻画公式.但其中含有多余的任意参数,因而不是一个有效刻画,本文利用方阵的满秩分解,为I{2}s的一个真子集B1剔除了Stewart公式中的多余任意参数,得到了B1的有效刻画公式;还证明了I{2}是其有限个子集的并集,其中每个子集与B1等距同构.由此可分别建立I{2},I{2},M{2}和M{2}的有效刻画公式.算法2.1则可用于无重复地计算I{2}s的每个元素.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	征道生	华东师范大学数学系	2	1	1.0	1.0