往复式线切割对单晶硅表面粗糙度的影响

• 作者: 何健 宋丽 徐中民 王劼 王纳秀
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石线 色散元件 表面粗糙度 颗粒度 切速比
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 692-696
• 分类号: TG58|TL99
• 语种: 中文
• DOI: 10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2015.05.014

摘要

为了研究不同尺寸的金刚石颗粒、不同切速比(进给速度与线速度之比值)、金刚线切割时间与不同往复切割次数对晶体色散元件表面粗糙度的影响,主要采用四种不同线径的电镀金刚石线在上述条件下做切割晶面(111)单晶硅分光晶体的实验,并实现在脆性材料单晶硅的塑性区域进行线切割加工.结果表明:在塑性区域加工单晶硅分光晶体的表面粗糙度与金刚石颗粒尺寸成正比、与切速比有密切关系,增加往复切割的次数可以有效降低分光晶体的表面粗糙度.此次研究能够给上海同步辐射光源晶体色散元件加工提供一定的参考价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王劼	中国科学院上海应用物理研究所	38	128	6.0	7.0
2	徐中民	中国科学院上海应用物理研究所	142	10017	42.0	99.0
3	王纳秀	中国科学院上海应用物理研究所	23	94	6.0	8.0
4	宋丽	中国科学院上海应用物理研究所	18	303	7.0	17.0
5	何健	中国科学院上海应用物理研究所	2	5	1.0	2.0