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摘要:
基于激光干涉光刻的基本原理,设计了新型的可应用于大面积光刻的激光图案检测系统,并阐述了利用电荷耦合元件对光刻图案的 CMOS 实时检测及实现大面积光刻的方法。实验结果表明,使用激光干涉光刻技术可以产生大面积的亚微米级周期性图案。该方法提供了得到高分辨、无限焦深、大面积光刻的可能性。
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文献信息
篇名 应用于大面积光刻的激光图案检测系统
来源期刊 中国科技论文 学科 工学
关键词 激光干涉光刻 压电陶瓷控制 CMOS 实时检测
年,卷(期) 2015,(8) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 948-951,956
页数 5页 分类号 TN393
字数 3560字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 胡贞 长春理工大学电子信息工程学院 24 74 4.0 8.0
5 侯煜 长春理工大学电子信息工程学院 1 0 0.0 0.0
9 王作斌 长春理工大学电子信息工程学院 15 3 1.0 1.0
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激光干涉光刻
压电陶瓷控制
CMOS 实时检测
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