Ni-P-纳米SiO2化学复合镀层的制备

• 作者: 宿辉 张丽伟
• 来源期刊: 沈阳大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米SiO2 化学复合镀 镀液 镍 磷
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 材料与化工
• 页码范围: 104-107
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 1794字
• 语种: 中文

摘要

采用化学镀方法在45钢表面制备Ni-P-纳米SiO2化学复合镀层,较系统地研究了化学镀液成分及施镀温度、pH值等参数对镀层形成的影响,通过扫描电子显微镜(SEM)和能量色散光谱(EDS)分析了Ni-P-纳米SiO2镀层的形貌和成分.实验结果表明:主盐、还原剂、络合剂、温度、pH值对Ni-P-纳米SiO2镀层的沉积速率有较大的影响,实验确定的最佳主盐质量浓度为25 g·L-1、还原剂质量浓度为30 g·L-1、施镀温度为86℃、pH值为4.5,所得镀层均匀、致密.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宿辉	黑龙江工程学院材料与化学工程学院	35	271	7.0	16.0
2	张丽伟	中国电子科技集团公司光电研究院	1	0	0.0	0.0