TDX-200TEM物镜磁路缺陷对物镜性能影响研究

• 作者: 刘雪萍 张秀艳 董全林
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 物理光学 透射电子显微镜 物镜 磁路缺陷 磁场分布
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 光学仪器与光学设计
• 页码范围: 81-84
• 分类号: TN16
• 语种: 中文

摘要

基于TDX-200透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope,TEM),利用ANSYS软件仿真物镜磁路存在空隙、凹陷、凸起缺陷时物镜轴上的磁场分布,在此基础上利用MEBS软件仿真物镜激励、球差系数等性能参数,分析了各磁路缺陷对物镜分辨率的影响.结果表明,在相同加速电压下,相对于空隙缺陷、凸起缺陷对物镜分辨率的影响,凹陷缺陷对物镜分辨率的影响最大.在200kV加速电压下,当物镜存在直径为0.5mm的半圆形凹陷环缺陷时,实际分辨率相对于理想分辨率的变化量可达到9.68％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张秀艳		2	1	1.0	1.0