聚吡咯/纳米SiO2复合材料的制备及氧化性能

• 作者: 吴小华 康秋红 方克鸣 蒋莉莉 钱方明
• 来源期刊: 高分子学报
• 关键词: 聚吡咯 二氧化硅 对苯二酚 氧化 紫外-可见光谱法
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 596-601
• 语种: 中文
• DOI: 10.11777/j.issn1000-3304.2015.14401

摘要

采用化学氧化法制备聚吡咯/纳米SiO2(PPy/nSiO2)复合材料,通过扫描电子显微镜和红外光谱对其进行表征,并将其应用到对苯二酚的氧化反应中.结果表明,PPy/nSiO2复合材料中,PPy较均匀地负载在纳米SiO2表面.在弱酸性介质中,PPy/nSiO2对对苯二酚具有很好的氧化性能.反应2h内,对苯二酚的氧化过程符合表观一级反应动力学.结合紫外-可见光谱法分析表明,聚吡咯通过与对苯二酚之间的氢键相互作用形成聚吡咯活性中间体,将对苯二酚氧化为对苯醌,聚吡咯具有氧化剂和催化剂的双重功能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴小华	浙江师范大学化学与生命科学学院	40	191	7.0	10.0
2	方克鸣	浙江师范大学化学与生命科学学院	19	112	5.0	10.0
3	蒋莉莉	浙江师范大学化学与生命科学学院	3	12	2.0	3.0
4	康秋红	浙江师范大学化学与生命科学学院	2	9	1.0	2.0
5	钱方明	浙江师范大学化学与生命科学学院	1	9	1.0	1.0