极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征

• 作者: 匡尚奇 李春 王珣 金春水
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 极紫外保护层 直流反应磁控溅射 迟滞回线
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 403-410
• 页数: 8页
• 分类号: O484.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201535.0331001

摘要

极紫外(EUV)反射镜在使用过程中的氧化及表面碳污染沉积,严重影响了极紫外光刻(EUVL)技术的工业应用.为了延长EUV反射镜的稳定性与使用寿命,一般采取在Mo/Si多层膜表面添加保护层.采用直流反应磁控溅射技术,建立氧气流量与溅射电压之间的“迟滞回线”关系,进而准确掌握不同氧化物保护层所需氧气量,以此减少过多的活性氧对下层Mo/Si多层膜的影响,提高镜面的反射率.选用RuO2与TiO2两种保护层材料进行比较,根据充氧量的不同,分析不同反应阶段的薄膜特性.针对催化性和物理稳定性更好的TiO2薄膜,在晶相、表面粗糙度、截面均匀性和化学组分等方面给予评价.研制出膜质致密均匀的非晶态TiO2薄膜,其表面粗糙度优于100 pm;TiO2纯度(质量分数)达97.2％;保护层厚度为2 nm的Mo/Si多层膜的反射率损失小于5％,满足EUV外多层膜的基本要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李春	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	30	317	10.0	17.0
2	金春水	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	56	202	9.0	11.0
3	王珣	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	3	7	1.0	2.0
4	匡尚奇	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	6	10	2.0	3.0