光学元件表面缺陷相对位置分布对近场光束质量的影响

• 作者: 尤科伟 张军勇 张艳丽 张雪洁 朱健强
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 物理光学 相位调制 近场光束质量 表面缺陷 相对位置分布
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 测量与计量
• 页码范围: 255-263
• 页数: 9页
• 分类号: O436
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201542.0308004

摘要

针对高功率激光装置,光学元件表面不同分布形态的多个缺陷引起的子光束,在传输过程中会相互干涉叠加,引起光束质量发生复杂变化,因此有必要对缺陷的相对位置关系加以规范.基于光的衍射传输理论,研究了光学元件表面存在不同空间分布的划痕时光场调制的变化,以及划痕深度对调制光束近场分布的影响.结果表明,元件前后表面存在平行或垂直划痕时均会比单一划痕产生更加严重的光束调制,最大调制度可增至1.5倍,且划痕具有更严格的深度要求.研究结果为光学元件图形制备标准的补充及高功率激光装置大口径光学元件表面缺陷指标的确定提供了重要参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱健强	中国科学院上海光学精密机械研究所	147	1132	17.0	31.0
2	张艳丽	中国科学院上海光学精密机械研究所	26	123	6.0	11.0
3	张军勇	中国科学院上海光学精密机械研究所	19	1	1.0	1.0
4	张雪洁	中国科学院上海光学精密机械研究所	9	1	1.0	1.0
5	尤科伟	中国科学院上海光学精密机械研究所	2	0	0.0	0.0