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摘要:
在光学超材料研究过程中,其微观结构的控制制备技术至关重要.综述了国内外在光学超材料制备方法方面的大致发展历程.重点介绍了二维光学超材料的制备技术,并分析对比了各种经典制备方法的优缺点.在二维光学超材料制备方法基础上,进一步叙述了三维光学超材料的传统制备和新的研究制备方法.简要介绍了均匀介质光学超材料的介电常数、磁导率、折射率和阻抗等有效电磁参数的提取过程.
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文献信息
篇名 光学超材料的制备方法与参数提取
来源期刊 强激光与粒子束 学科 物理学
关键词 光学超材料 实验 有效参数 刻蚀 自组装
年,卷(期) 2015,(10) 所属期刊栏目 复杂电磁环境效应实验技术
研究方向 页码范围 163-167
页数 5页 分类号 O436
字数 4291字 语种 中文
DOI 10.11884/HPLPB201527.103233
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 江波 中国电子科技集团公司第三十三研究所电磁防护材料及技术山西省重点实验室 3 22 1.0 3.0
2 赵亚丽 中国电子科技集团公司第三十三研究所电磁防护材料及技术山西省重点实验室 12 29 3.0 4.0
4 王东红 中国电子科技集团公司第三十三研究所电磁防护材料及技术山西省重点实验室 26 101 5.0 9.0
7 李克训 中国电子科技集团公司第三十三研究所电磁防护材料及技术山西省重点实验室 8 20 2.0 4.0
8 王军梅 中国科学院山西煤炭化学研究所煤转化国家重点实验室 1 1 1.0 1.0
传播情况
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光学超材料
实验
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强激光与粒子束
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1001-4322
51-1311/O4
大16开
四川绵阳919-805信箱
62-76
1989
chi
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