极紫外光刻含缺陷掩模仿真模型及缺陷的补偿

• 作者: 刘晓雷 李思坤 王向朝
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学制造 极紫外光刻 掩模仿真 缺陷补偿 单平面近似
• 年，卷（期）: 2015,（8）
• 所属期刊栏目: 光学设计与制造
• 页码范围: 285-293
• 页数: 9页
• 分类号: O436
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201535.0822006

摘要

建立了一个基于单平面近似的极紫外(EUV)光刻三维含缺陷掩模的快速仿真模型.该仿真模型中,采用相位突变和振幅衰减表示缺陷对多层膜的反射系数的影响,吸收层模型采用薄掩模修正模型.以22 nm三维接触孔图形为例,周期为60 nm时,该仿真模型与波导法严格仿真相比,仿真速度提高10倍以上,而关键尺寸(CD)仿真误差小于0.6 nm.基于该仿真模型,对掩模缺陷进行了补偿计算,得到了与严格仿真一致的最佳图形修正量.针对不同的缺陷形态尺寸,提出了缺陷的可补偿性的概念,并进一步讨论了二维图形的缺陷的可补偿性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王向朝	中国科学院上海光学精密机械研究所	170	1628	23.0	35.0
2	李思坤	中国科学院上海光学精密机械研究所	25	3	1.0	1.0
3	刘晓雷	中国科学院上海光学精密机械研究所	6	3	1.0	1.0