基于脑表面形态学分析在特发性全面性癫痫的应用

• 作者: 刘衡 张体江 张国明 彭岚 朱克文 李仕广 江林 王亚男
• 来源期刊: 中国医学影像技术
• 学科: 医学
• 关键词: 癫痫 特发性全面性 磁共振成像 脑形态学分析
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 中枢神经影像学
• 页码范围: 21-24
• 页数: 4页
• 分类号: R742.1|R445.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.13929/j.1003-3289.2016.01.005

摘要

目的 应用基于脑表面形态学的分析,探讨特发性全面性癫痫(IGE)脑皮层的结构改变.方法 收集IGE患者16例(IGE组)和健康志愿者16名(对照组),均行常规序列和高分辨率3D-T1WI结构像采集.利用FreeSurer软件测量脑皮层厚度、表面积及灰质体积,并分析形态学异常脑区与病程的相关性.结果 与对照组比较,IGE组右颞中回皮层变薄(P=0.010 9),左颞中回表面积减小(P=0.000 3),左额下回中部(P=0.000 2)、左外侧枕叶(P=0.043 6)、右岛叶(P=0.000 7)表面积增大;左颞上回体积减小(P=0.011 9).皮层厚度、脑表面面积、脑灰质体积与病程、发病起始年龄均无相关性(P均＞0.05);右颞中回皮层厚度与病程呈负相关(r=-0.48,P＜0.05).结论 IGE存在多个脑区微观结构的形态学异常.基于脑表面形态学分析可为IGE提供一定的影像学依据.