高功率激光系统中缺陷引起的近场调制分析

• 作者: 尤科伟 张军勇 张艳丽 张雪洁 朱健强
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 物理光学 近场光束质量 等效菲涅耳数 表面缺陷
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 激光器与激光光学
• 页码范围: 7-12,73
• 页数: 7页
• 分类号: O436
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201643.0302002

摘要

高功率激光装置中通过测量光束强度分布来评价近场光束质量.然而测量结果为一稳态分布,并不能真实反映经噪声扰动后光束的强弱调制演变特性,可能会忽略传输过程中存在的调制较为严重的区域.针对此问题着重研究了光束经噪声扰动后的近场传输演化特性,进而对近场分布测量的局限性进行深化理解和补充.同时,为简化分析单因素局部缺陷影响下不同传播距离处的近场分布变化规律,引入等效菲涅耳数来表征近场强度调制特性.结果表明,当实测近场分布中存在较弱调制信息时,测量位置之前可能存在更为严重的调制区域.以调制为π的相位型缺陷为例,其最大调制相对于入射光强度可增大9倍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱健强	中国科学院上海光学精密机械研究所	147	1132	17.0	31.0
2	张艳丽	中国科学院上海光学精密机械研究所	26	123	6.0	11.0
3	张军勇	中国科学院上海光学精密机械研究所	19	1	1.0	1.0
4	张雪洁	中国科学院上海光学精密机械研究所	9	1	1.0	1.0
5	尤科伟	中国科学院上海光学精密机械研究所	2	0	0.0	0.0