氰化镀铜槽液分析故障处理一例

• 作者: 李雪源 胡素荣
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 氰化镀铜 氰化亚铜 氢氧化钠 分析故障
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 所属期刊栏目: 生产实践
• 页码范围: 40-41,46
• 页数: 3页
• 分类号: TQ115.312
• 字数: 1997字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2016.09.009

摘要

在对氰化镀铜槽液分析化验过程中,出现氰化亚铜含量偏低及氢氧化钠出现黑色沉淀的故障.采用原子吸收光谱法分析铜含量,结合原理分析,确定氰化亚铜含量偏低是因为过硫酸铵失效.通过与标准镀液对比试验,确定氢氧化钠分析中出现黑色沉淀是由于游离氰化钠含量过高,分析中加入的硝酸银过量太多的原因.通过调整分析方法后,该现象得到解决,分析正常.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李雪源	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	10	39	2.0	6.0
2	胡素荣	中国工程物理研究院机械制造工艺研究所	6	2	1.0	1.0