氧压对PLD技术制备0.935Bi1/2Na1/2TiO3-0.065BaTiO3-0.01Al6Bi2O12薄膜的影响

• 作者: 冀露露 刘春海 张燕 李伟 李淑真 梁增基 王莹
• 来源期刊: 聊城大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 压电薄膜 氧压 脉冲激光沉积 结构
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 基础科学研究
• 页码范围: 19-23
• 页数: 5页
• 分类号: TM282
• 字数: 2667字
• 语种: 中文

摘要

压电薄膜具有优异的铁电、压电和介电性能,被广泛的应用于存储器、微传感器和微驱动器等领域中.目前脉冲激光沉积技术(PLD)成为一种新兴的薄膜制备技术,沉积薄膜的质量容易受到衬底温度、氧压、靶材与衬底距离、激光能量等方面的影响.本文基于0.935Bi1/2 Na1/2TiO3-0.065BaTiO3-0.01Al6Bi2O12(简称为BNBT-0.01AB)薄膜,利用PLD制备技术研究了不同氧压(15 Pa,30 Pa)对沉积的薄膜结构与性能的影响.结果表明:在30 Pa下沉积得到的薄膜产生了(l00)方向的择优取向生长,晶粒呈立方块状,有效压电系数d*33为103 pm/V;15 Pa下沉积得到的薄膜为随机取向,晶粒呈片状,有效压电系数d*33为69'pm/V.本研究结果为选择合适的沉积参数提供了有利的参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李伟	聊城大学材料科学与工程学院	24	43	4.0	6.0
2	王莹	聊城大学材料科学与工程学院	9	1	1.0	1.0
3	张燕	聊城大学材料科学与工程学院	4	3	1.0	1.0
4	刘春海	聊城大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
5	梁增基	聊城大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
6	李淑真	聊城大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
7	冀露露	聊城大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0