UV/H2O2法深度处理焦化废水的研究

• 作者: 安冉 宋秀兰
• 来源期刊: 中北大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 焦化废水 UV/H2O2法 残留有机物
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 化工与环境工程
• 页码范围: 296-303
• 页数: 8页
• 分类号: TQ520.9
• 字数: 4350字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-3193.2016.03.017

摘要

焦化厂生物和混凝处理出水中残留的有机物制约了其安全排放,故有必要研究其深度处理技术.以某焦化废水处理厂尾水为研究对象,用UV/H202法对其进行处理.采用单因素和正交实验的方法考察了光源距离、H2O2浓度、pH值和温度对色度、TOC和UV254去除率的影响.正交实验结果表明,对TOC去除率影响顺序为光源距离＞温度＞pH＞H2O2浓度.两种方法确定的最佳条件一致,即距光源距离为4 cm、H2O2浓度为24 mmol/L,温度40℃,pH为5,光照反应时间为2h,TOC、色度和UV254去除率分别为68.76％,97.76％和96.84％.TOC降解符合一级反应动力学.经UV/H2 O2处理后,焦化废水尾水中一些难以生物降解的有机物得到了部分或完全去除.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋秀兰	太原理工大学环境科学与工程学院	39	282	8.0	16.0
2	安冉	太原理工大学环境科学与工程学院	1	1	1.0	1.0