基于二氧化钒的辐射率可调涂层设计

• 作者: 曹韫真 沈自才 王孝 闫璐
• 来源期刊: 宇航材料工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 智能热控涂层 二氧化钒 模拟计算
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 新材料新工艺
• 页码范围: 22-26
• 页数: 5页
• 分类号: TB34
• 字数: 3470字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2330.2016.03.005

摘要

设计了基于VO2的非对称FP腔薄膜结构的智能热控涂层,并应用光学模拟计算的方法研究了不同膜层厚度对薄膜结构辐射率的影响,以及辐射率随角度的变化规律.计算结果表明,当相变层VO2层的厚度从15 nm增至120 nm时,薄膜结构的辐射率变化△ε先增加再减小,VO2厚度为50 nm时,△ε达到最大,约为0.6.介质层HfO2的厚度主要影响多层薄膜结构的高温吸收带位置,但△ε在HfO2层厚度为800～1 000 nm,均可达到约0.6的最大值.多层薄膜结构在0°～ 70°,仍保持明显的辐射率变化,△ε在0.4以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈自才		57	347	11.0	16.0
2	曹韫真	中国科学院上海硅酸盐研究所	14	85	6.0	9.0
3	闫璐	中国科学院上海硅酸盐研究所	4	6	1.0	2.0
4	王孝	中国科学院上海硅酸盐研究所	2	2	1.0	1.0