铜掺杂聚L-赖氨酸膜修饰电极的制备及其用于橙汁饮品中抗坏血酸的测定

• 作者: 武佳佳 胡文娜
• 来源期刊: 安徽科技学院学报
• 学科: 化学
• 关键词: L-赖氨酸 循环伏安法 修饰电极 铜掺杂 抗坏血酸
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 食品药品科学
• 页码范围: 47-51
• 页数: 5页
• 分类号: O657.15
• 字数: 2754字
• 语种: 中文

摘要

利用循环伏安法制备铜掺杂聚L-赖氨酸修饰玻碳电极,并对抗坏血酸的电化学行为进行研究.建立用循环伏安法测定抗坏血酸的新方法.在pH =2.5的磷酸盐缓冲溶液中,扫描速率为180 mV/s,抗坏血酸在修饰电极上产生一灵敏的氧化峰,响应峰电位为0.364 V,抗坏血酸的浓度峰电流在8.0×10-5～ 8.0×10-3 mol/L的范围内有良好的线性关系,检出限为8.0×10-7mol/L.对橙汁饮品进行测定,结果满意.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡文娜	蚌埠学院应用化学与环境工程系	11	37	4.0	6.0
5	武佳佳	蚌埠学院应用化学与环境工程系	1	1	1.0	1.0