H2O2基电解液的pH值对铜钌电偶腐蚀的影响

• 作者: 刘玉岭 周建伟 张乐 王辰伟 郑环
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 钌 铜 电化学 电偶腐蚀 pH
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 828-832,837
• 分类号: TN305.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2016.12.008

摘要

研究了电解液pH值对Cu和Ru电偶腐蚀的影响,并对其控制机理进行深入的研究.选取H2O2作为Cu和Ru电化学电解液中的氧化剂和腐蚀剂,选用HCl和KOH溶液作为pH调节剂,采用动电位扫描这种电化学技术,表征金属铜钌表面的电化学反应.实验结果表明:在pH值低于7时,Ru在电解液中逐渐生成不溶的RuO2·2H2O和RuO3,Cu仅发生腐蚀反应.在Cu和Ru的电偶腐蚀中,Cu作为阳极而加速溶解,影响器件的可靠性.在pH值高于7时,Ru可生成可溶的过钌酸盐,Cu表面含有一层致密的氧化层.在Cu和Ru电偶腐蚀中,Ru作为阳极而加速溶解,Cu得到了保护.在pH值为9时,Cu和Ru的腐蚀电位差最小为5 mV,因此在弱碱性阻挡层抛光液中可减少Cu和Ru之间的腐蚀电位差,有效抑制Cu和Ru之间电偶腐蚀现象的产生.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉岭	河北工业大学电子信息工程学院	263	1540	17.0	22.0
2	周建伟	河北工业大学电子信息工程学院	40	197	8.0	11.0
3	王辰伟	河北工业大学电子信息工程学院	80	287	8.0	10.0
4	郑环	河北工业大学电子信息工程学院	3	15	2.0	3.0
5	张乐	河北工业大学电子信息工程学院	1	3	1.0	1.0