金刚石表面终端和电解液pH值对铌基硼掺杂金刚石电极电化学性能的影响

• 作者: 余志明 孟令聪 焦娜 王菁清 郝诗梦 魏秋平
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: 硼掺杂金刚石电极 金属Nb 电化学性能 化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 779-785
• 页数: 7页
• 分类号: TG135.5
• 语种: 中文

摘要

以H2和CH4为反应气体,B2H6为硼掺杂源,采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在金属Nb上制备不同硼原子浓度的硼掺杂金刚石薄膜(BDD)电极.采用场发射扫描电镜(FESEM)、拉曼光谱仪(Raman spectrometer)和电化学工作站对金刚石薄膜的形貌、质量和电化学性能进行分析,研究金刚石表面端基和电解液pH值对BDD电极电化学性能的影响.结果表明,硼烷:甲烷=1％～2％(体积分数)的氢终端BDD电极,在酸性电解液(lmol/L H2SO4)中具有最宽的电势窗口(3.8V),在酸性溶液中具有极低的背景电流(～10-5A).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余志明	中南大学材料科学与工程学院	80	689	15.0	21.0
5	魏秋平	中南大学材料科学与工程学院	35	149	7.0	9.0
9	孟令聪	中南大学材料科学与工程学院	3	19	3.0	3.0
10	郝诗梦	中南大学材料科学与工程学院	3	28	3.0	3.0
11	焦娜	中南大学材料科学与工程学院	2	19	2.0	2.0
12	王菁清	中南大学材料科学与工程学院	2	7	1.0	2.0