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摘要:
采用电子束蒸镀技术在氟化镁基底上制备了单层 Al2O3薄膜和含有 HfO2中间层的 HfO2/Al2O3双层薄膜。在空气中对所制备的薄膜进行1 h 600℃的退火处理。通过掠入角X射线衍射仪(GIXRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、纳米压痕和划痕法对薄膜的微观结构、红外透过率和力学性能进行了表征。结果表明:退火处理后HfO2/Al2O3双层薄膜中形成了一层树枝状的新层,这种新层的硬度大于17.5 GPa。这种高硬度的新层能够保护氟化镁基底不被划伤。从GIXRD图谱中只能找到单斜相HfO2的衍射峰,而Al2O3薄膜仍然保持非晶态。从这些结果中可以推断出HfO2从非晶态向单斜相的转变促进了这种树枝状新层的产生,也正是这种新层提高了保护薄膜的力学性能。
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文献信息
篇名 氟化镁基底上HfO2中间层对Al2O3薄膜微观组织和力学性能的影响
来源期刊 无机材料学报 学科 工学
关键词 HfO2中间层 Al2O3薄膜 微观组织 力学性能 氟化镁基底
年,卷(期) 2016,(7) 所属期刊栏目 研究快报
研究方向 页码范围 779-784
页数 6页 分类号 TQ174
字数 617字 语种 中文
DOI 10.15541/jim20160030
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 宋力昕 中国科学院上海硅酸盐研究所特种无机涂层重点实验室 51 585 15.0 22.0
2 赵丽丽 中国科学院上海硅酸盐研究所特种无机涂层重点实验室 18 75 3.0 8.0
3 宋博 中国科学院上海硅酸盐研究所特种无机涂层重点实验室 6 36 2.0 6.0
7 陈笑迎 中国科学院上海硅酸盐研究所特种无机涂层重点实验室 3 2 1.0 1.0
8 游丽君 中国科学院上海硅酸盐研究所特种无机涂层重点实验室 3 2 1.0 1.0
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无机材料学报
月刊
1000-324X
31-1363/TQ
16开
上海市定西路1295号
4-504
1986
chi
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