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纳米聚集氧化硅固定磨料抛光布的抛光特性
纳米聚集氧化硅固定磨料抛光布的抛光特性
作者:
高绮
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
固定磨料抛光布
纳米聚集氧化硅
化学去除材料
表面划伤
微米粒径效应
摘要:
针对传统磨料的固定磨料抛光布容易在加工表面产生划伤,以及材料去除效率低等问题,提出了采用微米级球形聚集氧化硅粒子的固定磨料抛光布.将纳米聚集氧化硅粒子添加到抛光布中,用pH为10.5的碱性水溶液替代传统的抛光液,进行了Si基板的的抛光加工试验.与传统采用不规则形状天然氧化硅及球形熔融氧化硅固定磨料抛光布进行了比较,得到了纳米聚集氧化硅的固定磨料抛光布的加工特性,并讨论了它的基本参数对加工特性的影响.实验得到了与现行纳米抛光液(重量百分比为3%,pH=10.5)相同的材料去除率,加工表面粗糙度降低了约30%.与传统不规则形状天然氧化硅磨料抛光布相比,纳米聚集氧化硅抛光布的磨料为球形,弹性系数仅为其1.4%~60%,因此不易划伤抛光表面.与熔融氧化硅抛光布相比,纳米聚集氧化硅抛光布在pH为10.5的碱性水溶液中磨料表面可吸附的[—OH]离子提高了25倍,使得液相化学去除作用增大至去除率的70%以上.另外,随着纳米聚集氧化硅的微米粒径的增大,固定磨料抛光布的纳米级加工表面粗糙度几乎不变,但对前加工面表面粗糙度的去除能力明显增大,表现出微米粒径效应.
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内容分析
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关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
纳米聚集氧化硅固定磨料抛光布的抛光特性
来源期刊
光学精密工程
学科
工学
关键词
固定磨料抛光布
纳米聚集氧化硅
化学去除材料
表面划伤
微米粒径效应
年,卷(期)
2016,(10)
所属期刊栏目
微纳技术与精密机械
研究方向
页码范围
2490-2497
页数
8页
分类号
TN305.2
字数
3490字
语种
中文
DOI
10.3788/OPE.20162410.2490
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
高绮
天津职业大学机电工程学院
3
2
1.0
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传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
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共引文献
(0)
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引证文献
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同被引文献
(8)
二级引证文献
(5)
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参考文献(1)
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2014(2)
参考文献(2)
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2018(1)
引证文献(1)
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2019(5)
引证文献(0)
二级引证文献(5)
研究主题发展历程
节点文献
固定磨料抛光布
纳米聚集氧化硅
化学去除材料
表面划伤
微米粒径效应
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学精密工程
主办单位:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国仪器仪表学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1004-924X
CN:
22-1198/TH
开本:
大16开
出版地:
长春市东南湖大路3888号
邮发代号:
12-166
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
6867
总下载数(次)
10
总被引数(次)
98767
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