核壳结构PMMA/CeO2复合磨料对氧化硅片的抛光特性

• 作者: 付猛 李霞章 赵晓兵 陆晓旺 陈杨
• 来源期刊: 常州大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 聚甲基丙烯酸甲酯 氧化铈 核壳结构 复合颗粒 磨料 抛光
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 8-13
• 页数: 6页
• 分类号: TB383
• 字数: 3413字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-0411.2016.02.002

摘要

磨料的种类和性质对抛光质量具有重要影响,核壳结构有机/无机复合磨料的可控制备为实现无损伤抛光提供了有益思路.本实验利用基于正负电荷间静电作用的化学原位包覆技术,设计合成了具有可控无机壳层包覆量的PMMA/CeO2复合磨料,借助红外、扫描电镜、透射电镜和热重分析等手段对样品进行表征.借助原子力显微镜分析抛光试验前后热氧化硅片衬底表面的微观形貌、粗糙度和轮廓曲线,探索了复合磨料的CeO2壳层包覆量对抛光性能的影响.电镜结果显示,复合磨料呈单分散规则球形,CeO2纳米颗粒均匀包覆在PMMA内核(280～300nm)表面;热重分析表明,本实验所得复合磨料样品中的CeO2壳层质量分数在40％～56％.抛光试验结果显示,复合磨料的CeO2包覆量对抛光衬底表面质量有明显影响,当CeO2纳米颗粒在PMMA内核表面呈单层包覆时(样品C2),可获得无损伤的超光滑加工表面,抛光后表面粗糙度(Ra)平均值由0.63±0.07nm降至0.25±0.01nm,粗糙度均方根值(RMS)由0.79±0.08nm降至0.31±0.02nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵晓兵	常州大学材料科学与工程学院	23	82	6.0	8.0
2	陆晓旺	常州大学材料科学与工程学院	8	29	3.0	5.0
3	李霞章	常州大学材料科学与工程学院	27	93	6.0	9.0
4	陈杨	常州大学材料科学与工程学院	28	56	4.0	6.0
5	付猛	常州大学材料科学与工程学院	6	11	2.0	3.0