CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料的制备及其对蓝宝石抛光性能的影响

• 作者: 于少明 张雷 所世兴 王海倩
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: CeO2/ZrO2硅溶胶 复合磨料 化学沉淀法 蓝宝石抛光 单分散
• 年，卷（期）: 2018,（9）
• 所属期刊栏目: 试验与技术
• 页码范围: 3021-3027
• 页数: 7页
• 分类号: TQ127
• 字数: 5116字
• 语种: 中文

摘要

以硅溶胶为原料,通过化学沉淀法对硅溶胶进行铈锆改性,制备出抛光用单分散的CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料.考察了不同铈锆掺杂量的CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料对蓝宝石晶片抛光性能的影响,研究了CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料对蓝宝石晶片的抛光机理.通过透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)-能谱仪(EDS)、X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)对样品的组成、形貌等进行表征.以所制备的复合磨料对蓝宝石晶片进行抛光,利用原子力显微镜(AFM)检测抛光后的蓝宝石晶片表面粗糙度.结果表明:CeO2/ZrO2硅溶胶复合磨料中最佳的铈锆掺杂量为:铈掺杂量为1.5wt％,锆掺杂量为1.0wt％,材料去除速率可以达到36.1 nm/min,表面粗糙度可以达到0.512 nm,而相同条件下纯硅溶胶抛光后的蓝宝石表面粗糙度为1.59 nm,材料去除速率为18.4 nm/min,该复合磨料表现出较好的抛光性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于少明	合肥工业大学化学与化工学院	100	973	20.0	26.0
2	张雷	合肥工业大学化学与化工学院	60	618	16.0	23.0
3	王海倩	合肥工业大学化学与化工学院	3	0	0.0	0.0
4	所世兴		2	0	0.0	0.0