铜箔在石墨烯制备中的应用研究进展

• 作者: 孙云飞 宋佶昌 杨祥魁 王学江
• 来源期刊: 印制电路信息
• 学科: 工学
• 关键词: 铜箔 石墨烯 化学气相沉积 综述
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 所属期刊栏目: 基板材料
• 页码范围: 36-42
• 页数: 7页
• 分类号: TN41
• 字数: 4587字
• 语种: 中文

摘要

因石墨烯独特的结构和优异的性能,自发现以来一直是研究的热点.以铜箔为基底的化学气相沉积(CVD)法是目前制备石墨烯的一种重要方法.文章综述了石墨烯的主要制备方法及其存在的优缺点;对石墨烯以铜基底化学气相沉积法的生长机理、最新研究进展及在多个领域的应用前景进行了分析.