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太阳能多晶硅片表面污染物去除技术分析
太阳能多晶硅片表面污染物去除技术分析
作者:
皇甫国
高伟
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
太阳能多晶硅片
表面污染物
去除技术
摘要:
太阳能多晶硅片的洁净程度直接影响太阳能电池的后续加工,并对太阳能电池的使用性能产生一定的影响。对此,需要对太阳能多晶硅片表面污染物的去除工作加以重视。本文从太阳能多晶硅片表面污染物的特点入手,对太阳能多晶硅片表面污染物去除技术进行分析。
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文献信息
篇名
太阳能多晶硅片表面污染物去除技术分析
来源期刊
中国科技投资
学科
关键词
太阳能多晶硅片
表面污染物
去除技术
年,卷(期)
2016,(16)
所属期刊栏目
煤矿资源 COALRESOURCE
研究方向
页码范围
189-189,190
页数
2页
分类号
字数
2475字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
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皇甫国
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表面污染物
去除技术
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国科技投资
主办单位:
中国信息协会
出版周期:
旬刊
ISSN:
1673-5811
CN:
11-5441/N
开本:
大16开
出版地:
北京市
邮发代号:
82-979
创刊时间:
2002
语种:
chi
出版文献量(篇)
55421
总下载数(次)
154
总被引数(次)
22852
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