PLC VOA(Planar Lightwave Circuit Variable Optical Attenuation)偏振损耗相关性分析

• 作者: 江云
• 来源期刊: 探索科学
• 关键词: PLCVOA 偏振相关损耗 插入损耗
• 年，卷（期）: 2016,（10）
• 所属期刊栏目: 科学与探讨
• 页码范围: 255
• 页数: 1页
• 字数: 2043字
• 语种: 中文

摘要

研究基于硅基平台的PLC VOA器件,探讨上包层薄膜工艺与PLC VOA的偏振相关损耗(PDL)之间的关系.通过设计工艺实验,分析上包层薄膜的厚度、杂质浓度、薄膜退火温度和退火气氛的变化导致的工艺参数变化(薄膜折射率RI、应力值Stress).然后分析工艺参数与产品特性参数(插入损耗IL和偏振相关损耗PDL)之间的相关性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	江云		1	0	0.0	0.0