WBE技术研究水线区破损涂层的剥离机制-Ⅱ

• 作者: 张伟 王佳 王琦 陈亚林
• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 化学
• 关键词: 阵列电极 水线区 涂层剥离 电流分布 阻抗谱
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 322-328
• 页数: 7页
• 分类号: O646
• 语种: 中文
• DOI: 10.11902/1005.4537.2016.084

摘要

应用阵列电极(WBE)联合电化学阻抗谱(EIS)技术,研究了气/液界面水线处破损涂层在3.5％(质量分数)NaCl溶液中的水线区破损涂层剥离行为.对比涂层剥离过程的腐蚀电流密度和阻抗谱分布行为,探讨了破损涂层在水线区的剥离机制.结果表明,涂层破损区和固有缺陷区均能够加速附近涂层阴极剥离过程.水线区破损涂层剥离行为特征为,破损区和固有缺陷区附近涂层首先发生阴极剥离,进而向外部涂层/金属晃面扩展.此外,研究发现,破损区位于水线上方和下方时,其推动阴极剥离能力不同,即,加速水线下方涂层剥离作用弱于水线上方区域,致使水线及水线上方涂层剥离速率明显大于水线下涂层剥离速率.其原因显然与阴极剥离区溶解氧含量有关,即富氧区阴极剥离扩展速率大于乏氧区阴极剥离速率.