铝合金反射镜磁流变抛光表面质量控制的参数优化

• 作者: 李圣怡 胡皓 葛坤鹏
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 铝合金反射镜 化学机械抛光技术 磁流变抛光 去除函数 表面质量
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 精密加工
• 页码范围: 151-157
• 页数: 7页
• 分类号: TH161
• 字数: 3543字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13494/j.npe.20160030

摘要

基于化学机械抛光(CMP)技术的基本原理,选取合适的抛光液,研究了铝合金反射镜磁流变抛光过程中材料的去除机理,分析了磁流变平坦化加工的可行性,并通过单因素实验确定了最优参数,最后研究了相应去除函数的稳定性.实验结果表明,铝镜经磁流变抛光后获得了较高的表面质量,表面粗糙度达到Ra=5.593 nm,且去除了车削时产生的纹路;铝镜磁流变去除函数稳定,去除效率较高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李圣怡	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	77	1079	17.0	30.0
3	胡皓	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	6	37	4.0	6.0
9	葛坤鹏	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	1	8	1.0	1.0