利用干涉光刻技术制备LED表面微纳结构

• 作者: 于丹丹 刘宏伟 宁平凡 张建新 李晓云 程俊超 耿照新 郭凯
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 干涉光刻 周期结构 发光二极管 光提取
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 器件制备及器件物理
• 页码范围: 470-476
• 页数: 7页
• 分类号: TN383+.1
• 字数: 3839字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20173804.0470

摘要

为了制备大面积周期性微纳米结构以提高LED的发光效率,建立了劳厄德(Lloyd)干涉光刻系统.简单分析了该干涉光刻系统的工作原理,并介绍了利用干涉曝光工艺制备一维光栅、二维点阵、孔阵列等纳米结构图形的具体实验过程.最后对纳米图形进行结构转移,制备出了金属纳米结构.实验结果表明:利用劳厄德干涉光刻系统,可以在20 mm×20 mm大小的ITO衬底上稳定制备出周期为450 nm的均匀光栅或二维点阵列图形结构,它们的占空比也是可以调节变化的.