Mo/Al/Mo结构电极的坡度角和关键尺寸差研究

• 作者: 刘丹 刘涛 吕俊君 周禹 李晨雨 樊根瑞 段海洋 王百强 秦刚 蔡卫超 饶毅
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: Mo/Al/Mo电极 坡度角 关键尺寸差 正交试验
• 年，卷（期）: 2017,（11）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 877-885
• 页数: 9页
• 分类号: TP394.1|TH691.9
• 字数: 3359字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20173211.0877

摘要

Mo/Al/Mo结构金属作为TFT的电极,刻蚀后的坡度角和关键尺寸差是重要的参数.明确影响坡度角和关键尺寸差的工艺参数,进而控制坡度角和关键尺寸差,这对工艺制程至关重要.本文探究了膜层结构 、曝光工艺 、刻蚀工艺对坡度角和关键尺寸差的影响,并对刻蚀工艺进行正交试验设计.实验结果表明:Al膜厚每减小60 nm,坡度角下降约9°,关键尺寸差增加0.1μm.曝光工艺中,显影后烘烤会增加光阻粘附力,导致关键尺寸差减小0.1μm,同时坡度角增加约9°.刻蚀工艺中,过刻量每增加10%,坡度角下降3.3°,关键尺寸差增加0.14μm;正交试验结果表明,对关键尺寸差 、刻蚀均一性 、坡度角影响因素的重要性顺序是:液刀流量>Air Plasma电压>水刀流量.经上述探究表明,坡度角和关键尺寸差呈负相关关系,刻蚀程度增加,关键尺寸差增加,而坡度角则减小.可以通过调节工艺参数对坡度角和关键尺寸差进行控制.