面黑体辐射源的温度自抗扰控制

• 作者: 王志刚 王景辉 陈昱卓 黄大兴
• 来源期刊: 光电子·激光
• 学科: 工学
• 关键词: 面黑体 红外校准 非线性 自抗扰控制(ADRC) 温度控制
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 光电子器件和系统
• 页码范围: 376-381
• 页数: 6页
• 分类号: TP73
• 语种: 中文
• DOI: 10.16136/j.joel.2017.04.0367

摘要

设计了一种基于自抗扰控制(ADRC)的面黑体辐射源温度控制系统,通过对系统状态与未知扰动进行实时的观测和有效的补偿,提高了黑体辐射源的控温品质.在实际应用中,为了平衡控制输入大小与扰动估计速度,将扩张状态观测器(ESO)参数β03改造为分段函数以避免扰动估计量过大引起的饱和作用.结合LabVIEW软件的图形化编程,在Compact RIO实时控制器中实现黑体辐射源的温度控制和实验数据采集.通过在控制软件界面中实时观测系统各状态,从而快速有效地整定控制器参数.实验结果表明,ADRC算法能够有效地提高面黑体辐射源的温控品质,温度稳定性达到9 mK/10 min,并且有着更强的抗扰能力.