光学元件激光诱导损伤分析及实验研究

• 作者: 周岩 李成福 沈璐 王洪祥 白桦
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光制造 激光损伤阈值 表层杂质 亚表面缺陷 化学刻蚀
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 激光制造
• 页码范围: 92-98
• 页数: 7页
• 分类号: TG580.692
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201744.0302006

摘要

通过激光损伤实验,系统分析了传统研磨抛光加工工艺中表面杂质、刻蚀时间、亚表层缺陷和划痕宽深比对熔石英元件激光损伤阈值的影响.结果表明:擦洗后熔石英元件的激光损伤阈值为21.6J/cm2,未经擦洗的元件的激光损伤阈值为11.28J/cm2,受表层杂质影响激光损伤阈值大幅度降低,而有缺陷位置处的激光损伤阈值明显比无缺陷位置处的低.刻蚀时间的增加会使工件表面粗糙度和缺陷尺寸逐渐增大,导致光学元件激光损伤阈值大幅度下降,因此需要合理选择化学刻蚀时间.亚表层缺陷会对入射光场产生调制作用,造成局部区域反射光、散射光及入射光相互叠加,最终导致材料破坏而产生激光损伤.随着刻蚀时间的增加,划痕的宽深比会逐渐增大,可以逐渐减弱划痕对光场的调制作用,从而降低激光损伤发生的概率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	白桦		17	155	7.0	12.0
2	王洪祥		67	690	16.0	23.0
3	周岩		31	289	8.0	16.0
4	沈璐		2	0	0.0	0.0
5	李成福		5	21	3.0	4.0