193nm薄膜激光诱导损伤研究

• 作者: 常艳贺 李春 邓文渊 金春水
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 193nm 损伤形貌 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 综述与评述
• 页码范围: 308-311
• 分类号: O484
• 字数: 3520字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2011.03.006

摘要

概述了193nm薄膜激光诱导损伤的研究进展.通过对紫外到深紫外波段几种典型薄膜损伤形貌的介绍,对比分析了193nm薄膜激光诱导损伤的可能原因.指出在该波段的氧化物薄膜损伤中,吸收是导致薄膜大块损伤的重要因素,而氟化物的薄膜损伤则是由沉积过程的膜层局部缺陷造成.根据薄膜样品的损伤分析表明,薄膜的某些制备参量与激光损伤阈值相关联.为提高薄膜元件的抗激光损伤能力,分别从薄膜材料的选择、膜系设计的完善以及沉积工艺的优化等3个方面出发,总结出改善薄膜激光损伤阈值的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李春	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	30	317	10.0	17.0
2	金春水	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	56	202	9.0	11.0
3	邓文渊	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	20	187	7.0	13.0
4	常艳贺	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	8	17	2.0	4.0