193nm氟化物增透膜的特性

• 作者: 易葵 薛春荣 邵建达
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 氟化物薄膜 193 nm增透膜 预镀层 基底 剩余反射率
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 675-680
• 分类号: O484.4
• 字数: 3085字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112303.0675

摘要

为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物增透膜,研究了基底和不同氟化物材料组合对氟化物增透膜的影响.在熔石英基底上,将挡板法和预镀层技术相结合,采用热舟蒸发方式制备了不同氟化物材料组合增透膜,对增透膜的剩余反射率和光学损耗等光学特性,以及表面粗糙度和应力等特性进行了测量和比较.在分析比较和优化的基础上,设计制备的3层1/4波长规整膜系AlF3/LaF3增透膜在193 nm的剩余反射率低于0.14%,单面镀膜增透膜的透射率为93.85%,增透膜表面均方根粗糙度为0.979 nm,总的损耗约为6%.要得到高性能的193 nm增透膜,应选用超级抛光基底.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所	67	518	14.0	18.0
3	薛春荣	常熟理工学院江苏新型功能材料实验室	16	137	7.0	11.0