808nm激光诱导电化学刻蚀研究

• 作者: 史铁林 植海深 熊良才 蒙永祥 韦星 龙芋宏
• 来源期刊: 桂林工学院学报
• 学科: 工学
• 关键词: 激光 电化学 刻蚀 硅 不锈钢
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学与应用化学
• 页码范围: 132-135
• 页数: 4页
• 分类号: TG665
• 字数: 2990字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-9057.2009.01.027

摘要

为探讨半导体激光电化学刻蚀的工艺特性,采用808 nm半导体激光作为光源,聚焦激光照射浸于溶液中的阳极上,实现激光诱导电化学刻蚀材料.在实验的基础上,通过对金属和半导体材料刻蚀的比较,分析了激光电化学刻蚀硅的工艺特点.实验表明,808 nm激光诱导电化学刻蚀工艺是一个光热刻蚀过程,但不适合刻蚀半导体材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	史铁林	华中科技大学机械科学与工程学院	192	2245	25.0	38.0
2	龙芋宏	桂林电子科技大学机电工程学院	27	93	4.0	8.0
3	熊良才	华中科技大学机械科学与工程学院	28	380	11.0	18.0
4	韦星	华中科技大学机械科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
5	植海深	华中科技大学机械科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
6	蒙永祥	华中科技大学机械科学与工程学院	1	1	1.0	1.0