激光诱导化学气相沉积制膜技术

• 作者: 王豫 葛柏青
• 来源期刊: 安徽工业大学学报（自然科学版）
• 关键词: 激光化学沉积 薄膜 性能 工艺参数
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 页码范围: 7-10,22
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7872.2004.01.003

摘要

综述了LCVD制备薄膜的原理和特性,国内外对LCVD的研究应用情况及目前最新的研究方向.阐明了LCVD技术在制备薄膜过程中的生长低温化及高精度膜厚的可控制性能等特点.分析了激光功率、反应室气压及基材预处理等参数对薄膜质量的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王豫	安徽工业大学冶金与材料学院	15	202	8.0	14.0
2	葛柏青	安徽工业大学冶金与材料学院	1	26	1.0	1.0